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最新科技成果項目介紹——脈沖激光沉積法(PLD)制備納米薄膜

關鍵詞 項目介紹 , 工作原理 , 系統構成|2009-07-18 00:00:00|來源 彭城視窗
摘要 項目介紹:隨著激光器性能的不斷提高,在眾多的薄膜制備方法中,PLD技術的應用最為廣泛,可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜,...
  項目介紹
  隨著激光器性能的不斷提高,在眾多的薄膜制備方法中,PLD技術的應用最為廣泛,可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜,甚至還用來制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等,并取得了很大的成功。
  
  工作原理:
  在制膜腔內,用透鏡將一束強脈沖激光匯聚成一個很小的光斑,打在靶材料上,受到激光光斑照射的靶材料瞬時被氣化、電離,形成一團等離子體,高速向外噴射,從而在襯底上沉積形成一層薄膜。
  
  系統構成:
  (1)、準分子激光器
  (2)、PLD沉積系統
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