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一種用于半導(dǎo)體晶片研磨機的液體磨料供給系統(tǒng)和半導(dǎo)體晶片研磨系統(tǒng)

關(guān)鍵詞 半導(dǎo)體 , 研磨 , 磨料|2017-09-30 10:23:39|行業(yè)專利|來源 中國磨料磨具網(wǎng)
摘要 申請?zhí)?201720130464.3申請日:2017.02.14國家/省市:中國廣州(81)主分類號:B24B37/08(2012.01)授權(quán)公告號:206509880U授權(quán)公告日...

申請?zhí)? 201720130464.3

申請日: 2017.02.14

國家/省市: 中國廣州(81)

主分類號: B24B 37/08(2012.01)

授權(quán)公告號: 206509880U

授權(quán)公告日: 2017.09.22

分類號: B24B 37/08(2012.01); B24B 57/02(2006.01)

申請人: 廣州半導(dǎo)體材料研究所

發(fā)明人: 謝鴻波; 劉軍; 賴韶輝; 姚永紅

代理人: 付茵茵

代理機構(gòu): 廣州市華學(xué)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司(44245)

申請人地址: 廣東省廣州市天河區(qū)東莞莊161號


摘要: 本實用新型涉及用于半導(dǎo)體晶片研磨機的液體磨料供給系統(tǒng),包括低位磨料桶、高位磨料桶、連接低位磨料桶和高位磨料桶的上料管、將磨料從低位磨料桶抽至高位磨料桶的抽取泵、將磨料從高位磨料桶下料至研磨機的下料管、控制高位磨料桶下料通斷的開關(guān)閥門。本實用新型還涉及半導(dǎo)體晶片研磨系統(tǒng),包括半導(dǎo)體晶片研磨機和液體磨料供給系統(tǒng)。本實用新型具有供料的靈活性更強,便于連續(xù)地供給磨料,實現(xiàn)磨片機不間斷的磨片,供料更均勻的優(yōu)點,屬于半導(dǎo)體晶片加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。   


主權(quán)利要求

1.用于半導(dǎo)體晶片研磨機的液體磨料供給系統(tǒng),其特征在于:包括-低位磨料桶,-高位磨料桶,-連接低位磨料桶和高位磨料桶的上料管,-將磨料從低位磨料桶抽至高位磨料桶的抽取泵,-將磨料從高位磨料桶下料至研磨機的下料管,-控制高位磨料桶下料通斷的開關(guān)閥門。  


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